美国Lehighton Electronics（LEI）生产，配置高磁场的电磁铁，系统软件先进（多达 3种不同迁移率的载流子的分析），可分析多层结构的材料，合适小批量生产和研究机构。

主要用途：
LEI-1600系列迁移率测量系统是半导体生产工艺控制、产品质量监测和提高产品良率的非接触、无损检测设备，常应用于测量各种化合物半导体材料的迁移率、载流子浓度、方块电阻等重要特性。样品包括GaAs (pHEMT, HEMT, HBT)，GaN(HEMT，LED)，SiC，SiGe，InP，Si等复杂的外延结构。

主要优点：
采用非接触、无损测量，与传统的Van derPauw Hall测量方法比有以下优点：
1）无需对测量样品进行切割和复杂的接触电极制作，不破坏昂贵的样品，节约材料和人工成本；
2）可以直接对大致8”样品实现快速测量，无须考虑非良好欧姆接触带来的测量误差问题，确保测量重复性，提高生产率；
3）方便输出测量数据，能够得到迁移率、面密度、电阻率的三维或二维等高图（图形功能为选项）

主要指标：
样品尺寸：2”to 8”wafers。可选择遮光罩